真空管式爐的特點是在某一既定溫度下，可以預抽真空并能通氫氣、氬氣、氮氣、氧氣、一氧化碳、氨分解氣等氣體，主要應用于陶瓷、冶金、電子、玻璃、化工、機械、耐火材料、特種材料、建材、高校、科研院所、工礦企業做粉末焙燒、陶瓷燒結、高溫實驗、材料處理、質高校、科研院所、工礦企業做高溫氣氛燒結、氣氛還原、CVD實驗、真空退火等。院校實驗室和工礦企業實驗室，在進行高、中、低溫CVD工藝，如碳納米管的研制，晶體硅基板鍍膜，金屬材料擴散焊接以及真空或氣氛下的熱處理等實驗時，會經常用到真空管式爐，在進行這些實驗時需要注意以下幾點事項：
 

　　1、實驗樣品的安裝和支撐架的熱導率要低，以確保試驗樣品與安裝和支撐架間處于一種絕熱的狀態；
 

　　2、檢查高溫真空管式爐的試驗區內有無油氣等易揮發性物質和有氣味的物質，這類物質對試驗的影響必須預行確認；
 

　　3、冷爐使用時，由于管式爐膛是冷的，須吸熱，所以低溫段升溫速率不易過快，各溫度段的升溫速率差別不易太大，設置升溫速率時應充分考慮所燒結材料的物理化學性質，以免出現噴料現象，污染爐管。
 

　　4、爐溫盡量不要超過額定溫度，以免損壞加熱元件及爐襯。
 

　　5、管式爐在溫度試驗測試結束以后，必須在試驗樣品冷卻到室溫后才能取出樣品，否則會對樣品產生不必要的應力，會對樣品產生不可逆轉的影響；
 

　　6、為保持管式爐溫區內溫度一致，需要盡可能試驗環境溫度及設備動力電源的波動小，確保試驗樣品不產生熱輻射，不吸收熱量從而試驗區內的溫度平穩。