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真空鉬絲爐

真空鉬絲爐

簡要描述: 真空鉬絲爐用途:適用于電子陶瓷與高溫結構陶瓷的燒結、玻璃的精密退火與微晶化、晶體的精密退火、陶瓷釉料制備、粉末冶金、納米材料的燒結、金屬零件淬火及一切需快速升溫工藝要求的熱處理,是科研單位、高等院校、工礦企業理想的實驗和生產設備

  • 生產地址:上海
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2024-10-16
  • 訪  問  量:3238
詳細介紹

 真空鉬絲爐的詳細介紹

真空鉬絲爐具有*的性能設計,集多項于一身,安全性,可靠性,實用性均達*效果。
一、特點及用途
實驗室熱處理爐,底部裝料,操作方便,占地小,真空或充氣兩用。適用于金屬材料高溫燒結、熱處理、脫氣、金屬陶瓷化、粉末燒結、熒光粉等處理。也適用于無機非金屬材料的高溫燒結等處理。還適用于材料的真空釬焊處理。
二、結構說明
1.全不銹鋼結構,外表亞光處理,內部精密拋光處理。
2.底裝料式,操作方便。
3.結構爐體,結構電極,技術。
4.擴散泵+直聯式機械泵+高真空全不銹鋼擋板閥性能可靠。
5.底部可移動式結構,搬運方便。
6.金屬鉬絲加熱,全金屬隔熱屏,無碳污染問題,*技術使用不變形。
7.極限真空度達到1×10-3Pa
 
 
 GR.VMWF系列型號及規格
 
型號
爐膛尺寸(mm)
(DxH)
功率
(KW)
zui高溫度
℃)
額度溫度
(℃)
加熱元件
電壓
(V
GR.VMWF8/17
Ф80×100
25
1700
1650
鉬絲
380
GR.VMWF15/17
Ф150×200
30
1700
1650
鉬絲
380
GR.VMWF20/17
Ф200×300
36
1700
1650
鉬絲
380
GR.VMWF30/17
Ф300×400
40
1700
1550
鉬絲
380
 
,咨詢
 
另:我公司可以根據客戶具體要求進行非標設計與制造。

 

 

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